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设备预约
  • 主要功能:单分子测量。3.1.1双光镊,波长1064nm,光阱激光功率≥10W。 *3.1.2高灵敏度力学检测器,独立光阱采样频率≥30 kHz 。 *3.1.3力学分辨率:<0.1pN(@100Hz@1μm小球@0.3 pN/nm 光阱刚度条件下)。 *3.1.4最大逃逸力:>1000 pN (4.5 μm 微球条件下) 。 3.1.5光阱刚度范围:0.05pN/nm-1.5pN/nm(1μm 微球条件下) *3.1.6力学稳定性:2分钟内的漂移<0.3 pN 3.1.7力学探测器类型:位置敏感探测器PSD *3.1.8光阱距离分辨率:<0.3nm @100Hz 3.1.9最小步移:<3nm 3.1.10实时微球追踪精度<3 nm (@100 Hz)。 3.1.11微球运动范围>35um(x)
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  • 主要技术指标:3.1.1双光镊,波长1064nm,光阱激光功率≥10W。 *3.1.2高灵敏度力学检测器,独立光阱采样频率≥30 kHz 。 *3.1.3力学分辨率:<0.1pN(@100Hz@1μm小球@0.3 pN/nm 光阱刚度条件下)。 *3.1.4最大逃逸力:>1000 pN (4.5 μm 微球条件下) 。 3.1.5光阱刚度范围:0.05pN/nm-1.5pN/nm(1μm 微球条件下) *3.1.6力学稳定性:2分钟内的漂移<0.3 pN 3.1.7力学探测器类型:位置敏感探测器PSD *3.1.8光阱距离分辨率:<0.3nm @100Hz 3.1.9最小步移:<3nm 3.1.10实时微球追踪精度<3 nm (@100 Hz)。 3.1.11微球运动范围>35um(x)
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  • 主要学科领域:物理学
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  • 服务内容:单分子测量。3.1.1双光镊,波长1064nm,光阱激光功率≥10W。 *3.1.2高灵敏度力学检测器,独立光阱采样频率≥30 kHz 。 *3.1.3力学分辨率:<0.1pN(@100Hz@1μm小球@0.3 pN/nm 光阱刚度条件下)。
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  • 用户须知:提前一周
已测试 21 次 平均 7 个工作日完成 100% 对测试结果满意
  • 主要功能:主要功能:等离子刻蚀是利用高频辉光放电效应,使反应气体激活成活性粒子,如原子或游离基,这些活性粒子扩散到需刻蚀部位,与被刻蚀材料进行反应,形成挥发性反应物而被去除。其优势在于快速的刻蚀速率同时可获得良好的物理形貌。
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  • 主要技术指标:1. 反应腔室本底真空: < 1 x 10-6 mbar (1x 10-4 Pa),抽真空2小时后 2. 反应腔室漏率: < 5 x 10-4 mbar?l/s 3. 预真空室本底真空: < 1 x 10-1 mbar (10 Pa) 4. 预真空室漏率: < 5 x 10-4 mbar?l/s 5. 样片操作: 不同设置:样片进/出 6. 气路系统: 测试所有质量流量计(设定值10%, 50%, 90%) 7. 压力控制: 压力计/控制阀,不同压力 8. 下电极温度控制: 不同设置,-30oC~ +200oC(带循环冷却器Chiller)或RT~ +250oC(外接冷却水) 9. 等离子体测试: 不同设置(Ar或N2) 10. 反射功率: ≤ 1%,ICP功率 ≥ 500 W≤ 5 W,ICP功率 < 500 W 11. 其他: 安全互锁、运行工艺处方(Recipe)等 12. SiC刻蚀工艺 Cr掩膜 刻蚀深度:≥ 2 μm 刻蚀速率:≥ 400 nm/min 选择比:≥ 40:1 (SiC: Cr) 片上不均匀性:在50 mm范围内 ≤ ±4%(6mm边除外) 批间不均匀性:≤ ±5% 陡直度:85° ~ 90° 13. GaAs/AlGaAs刻蚀工艺 光刻胶掩膜 刻蚀深度:≥ 2 μm 刻蚀速率:≥ 400 nm/min 选择比:≥ 5:1 (GaAs: 光刻胶) 片上不均匀性:在100 mm范围内 ≤ ±4%(6mm边除外) 批间不均匀性:≤ ±5% 陡直度:90° ±2° 14. InP刻蚀工艺 SiO2掩膜 刻蚀深度:≥ 20 μm 刻蚀速率:≥ 500 nm/min 选择比:≥ 15:1 (InP: SiO2) 片上不均匀性:在100 mm范围内 ≤ ±4%(6mm边除外) 批间不均匀性:≤ ±5% 陡直度:90° ±3°
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  • 主要学科领域:材料科学,物理学,电子与通信技术,动力与电气工程
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  • 服务内容:共享学科:材料学科、机械学科、电力电子学科和半导体学科。
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  • 用户须知:
已测试 3 次 平均 7 个工作日完成 100% 对测试结果满意
  • 高精度太阳能塔式定日镜场及智能控制试验平台
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  • 主要功能:1. 主要包括定日镜设备本体、境场控制系统、校正系统 1.1试验平台工作温度-20~50℃,工作湿度0%~85%; 1.2 定日镜平均跟踪精度≤4mrad; 2. 定日镜设备本体 2.1 主要包括本体反射镜、定日镜支架及基础、传动部件; 2.2 反射镜面积≥1400m2,反射率≥92%; 2.3 定日镜最大运行风速14m/s,破坏风速30m/s; 2.4 设计寿命25年; 2.5 具有初始化、自检、预备、追日、校正、清洗、关场、安全等运行模式; 3. 境场控制系统 3.1 每台定日镜配置一台控制器,负责该定日镜的运动控制和运行状态上传; 3.2 控制器达到防水、防雾和防尘等级IP55; 3.3 控制系统具有发送操作命令、批量控制定日镜、报警等功能; 3.4 不同聚光焦点位置的切换以及定日镜投入数目的选择; 3.5 控制系统留有接口可以扩展定日镜面积(数量)至3000m2以上; 4. 提供光斑误差校正系统,全境场校正时间<60天;
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  • 主要技术指标:1. 主要包括定日镜设备本体、境场控制系统、校正系统 1.1试验平台工作温度-20~50℃,工作湿度0%~85%; 1.2 定日镜平均跟踪精度≤4mrad; 2. 定日镜设备本体 2.1 主要包括本体反射镜、定日镜支架及基础、传动部件; 2.2 反射镜面积≥1400m2,反射率≥92%; 2.3 定日镜最大运行风速14m/s,破坏风速30m/s; 2.4 设计寿命25年; 2.5 具有初始化、自检、预备、追日、校正、清洗、关场、安全等运行模式; 3. 境场控制系统 3.1 每台定日镜配置一台控制器,负责该定日镜的运动控制和运行状态上传; 3.2 控制器达到防水、防雾和防尘等级IP55; 3.3 控制系统具有发送操作命令、批量控制定日镜、报警等功能; 3.4 不同聚光焦点位置的切换以及定日镜投入数目的选择; 3.5 控制系统留有接口可以扩展定日镜面积(数量)至3000m2以上; 4. 提供光斑误差校正系统,全境场校正时间<60天;
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  • 主要学科领域:能源科学技术
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  • 服务内容:
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  • 用户须知:提前一个月申请
已测试 57 次 平均 7 个工作日完成 100% 对测试结果满意
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