场发射扫描电子显微镜-光衍未来

场发射扫描电子显微镜

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设备简介

场发射扫描电子显微镜-聚焦离子束系统
仪器型号:Cross Beam 540
设备简介:聚集离子束·场发射扫描电子显微镜设备利用电透镜将离子来聚集成非常小尺寸的离子束轰击材料表面，对材料进行纳米刻蚀，同时配合扫描电子显微镜进行实时定位与观察，具有束流稳定、分辨率高、纯米操控精确的特点，可以在纳米尺度上对材料开展三维形貌、晶体结构和做区化学成分的定佳走量分析研究，是纳米加工的代表
性方法。
技术指标:
聚焦离子束:分辨率,3nm@30kV;
可用离子束流,1pA-100nA;
加速电压,0.5-30kV
场发射扫描电镜:分辨率,0.9 nm@15kV;1.8 nm@1kV;
加速电压,0.02-30kV;
放大倍数,12X-2,000,000X;
配置5个探测器,包括InLens，EsB，SE，BSD，EDS;
五支气体注入系统:XeF2,Pt,C，Si,H20
主要功能:
3)高分辨二次电子图像;b)高分辨背散射电子图像;)三维重构成像;0)三维空间材料组成及分布;)三维孔隙分布、连通性、孔径及孔隐度;f元素组成与含量(EDS)分析;g)透射电镜样品制备;h)纳米加工(沉积、刻蚀)
应用领域:
材料分析与检测，表面成像，地球科学、半导体、涂层等