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高分辨透射电子显微镜

主要功能：主要用于固体材料的表面元素成份及价态的定性、半定量分析，固体表面元素组成的深度剖析及成像。可应用于金属、无机材料、催化剂、聚合物、涂层材料矿石等各种材料的研究，以及腐蚀、摩擦、润滑、粘接、催化、包覆、氧化等过程的研究。
主要技术指标：1.XPS 能量分辨率：0.48eV/(Ag 3d5/2） 0.68eV/(C 1s) 最小分析区域（收谱） <15μm 灵敏度：大面积 11，800kcps 110μm 1，800kcps 27μm 100kcps 成像空间分辨率：小于3μm 2.UPS 能量分辨率：Ag表面费米边在20%到80%结合能差不高于120meV 灵敏度：Ag 4d峰不低于1，000kcps 3.AES 灵敏度：大于500kcps(10kV/5nA时Cu的LMM峰) 信噪比：500:1 4.SEM 分辨率：在10kV/5nA时优于100nm 在3kV/5nA时优于300nm
主要学科领域：物理学
服务内容：XPS宽谱、高分辨谱、成像、刻蚀等测试
用户须知：

已测试 26 次平均 7 个工作日完成 100% 对测试结果满意

空间结构大型节点试验系统

空间结构大型节点试验全方位加载系统
主要功能：对大型空间结构节点沿各杆件轴向加载试验
主要技术指标：试件最大尺寸：（受压杆取上限段，受拉杆取下限段）竖直方向：2500~2950 球心向外方向： -使用主缸：1050~1450 -使用辅助缸：1260~1460 -使用伺服缸：1185~1395 -使用下平台：1540 E.水平方向油缸布置：经度范围为240°（开口处每边要减去15°的盲区），两相邻油缸经度最小夹角为22.5°。 F.上下方向油缸布置：纬度范围：-47°～+55°（近主油缸受限32°，近底座受限40°），两相邻油缸纬度最小夹角为22.5°。 G.两相邻油缸纬度差大于22.5度时，经度最小夹角为7.5度。 H.两相邻油缸分别交替布置在上下半球。
主要学科领域：土木建筑工程
服务内容：空间结构复杂节点加载试验
用户须知：无

已测试 11 次平均 7 个工作日完成 100% 对测试结果满意

活体多光子显微镜

主要功能：相对于传统单光子激光共聚焦成像来说，多光子成像在生物厚组织如活体脑组织成像中具有较高的空间分辨率、信噪比及较低的组织损伤性等优势。除了成像以外多光子显微镜还具备有很多精准的操纵功能。
主要技术指标：1.全电动正置式显微镜。 2.扫描模式:共振扫描+检流计扫描。能实现 512x512像素下帧速>25帧/秒。 3.双通道PMT探测模块。配置至少一个通道的高灵敏度GaAsP PMT 探测模块。 4.系统包括一台飞秒级脉冲激光器。激光器平均功率>3.5 瓦,脉宽≤140 飞秒，提供从680到1080纳米的连续可调激光波段，脉冲频率80MHz。 5.自带软件，可控制周边硬件及扫描系统。 6.系统配有高性能图形工作站。 7.具有高速Z轴步进扫描单元。
主要学科领域：自然科学相关工程与技术
服务内容：目前申请购买的多光子非人灵长类脑成像系统结合本研究所的非人灵长类研究特色主要用于活体动物（特别是非人灵长类）的脑组织的深度荧光成像、三维结构和荧光强度分析。
用户须知：无

已测试 25 次平均 7 个工作日完成 100% 对测试结果满意

稀释制冷机

主要功能：超导量子芯片的测量，为超低温实验平台。该设备可容纳50-100个超导量子比特，同时保证低温指标，可以完成超低温下的50-100个超导量子比特的微波信号处理，是开展50+超导量子计算实验研究的必要设备。
主要技术指标：无需外加液氦制冷；超强制冷力，系统基础温度< 10mK，正常运行时系统制冷功率> 30μW @20mK，> 1000μW @100mK; 使用双脉管制冷机（单台额定制冷功率≥1.5W @4K）；制冷机内部3He/4He冷凝循环制冷插件包括Still、MC置于底盘中心通孔处；可用样品空间的直径不小于500毫米，高度不小于550毫米，混合腔有独立防辐射罩；双分子泵和旋转阀与制冷机主机体分离, 脉管制冷机法兰上装有波纹管结构(bellows)进行减振，低温恒温器采用重负载框架固定，采用主动式减振系统，运行频率覆盖2Hz-200Hz，在0.1-1Hz采用低频传感器作为振动反馈.
主要学科领域：物理学
服务内容：该设备主要服务于物理学，也可用于材料、电子工程、化学等学科的相关实验及研究。
用户须知：

已测试 31 次平均 7 个工作日完成 100% 对测试结果满意

双束扫描电镜FIB2

主要功能：聚焦离子束（FIB）扫描电镜可在纳米尺度利用离子轰击样品表面，实现材料的剥离、沉积、注入等加工工艺，同时还具有扫描电子显微镜（SEM）的成像功能、TEM透射电镜样品制备、薄膜断面样品制备、二次电子成像、背散射电子成像、EDS能谱分析、微纳加工等功能。
主要技术指标：分辨率：电子束：0.6nm@15kV（最佳工作距离）；
主要学科领域：材料科学
服务内容：分析检测、技术咨询，需要提前预约
用户须知：

已测试 23 次平均 7 个工作日完成 100% 对测试结果满意

研磨抛光一体机

主要功能：适用于半导体、集成电路领域中，晶圆背面研磨抛光与自动贴膜。
主要技术指标：（1）晶圆尺寸：兼容晶圆芯片尺寸12寸、8寸。（2）厚度测量：配NCIG（非接触式光学测高）实时测量晶圆研磨厚度变化。（3）减薄厚度：量产情况下，晶圆最小可减薄到25μm，厚度波动范围不超过±3μm，不带膜验证片内TTV不超过3μm，片间TTV不超过±3um，粗磨细磨后表面粗糙度130nm(2000#磨轮)，CMP后表面粗糙度不超过1nm；
主要学科领域：力学,电子与通信技术
服务内容：适用于半导体、集成电路领域中，晶圆背面研磨抛光与自动贴膜，可承接委托加工订单。
用户须知：如需预约委托加工，请提前联系。

已测试 33 次平均 7 个工作日完成 100% 对测试结果满意

120kV透射电镜

主要功能：1. 可用于常温细胞生物学超微结构研究和生物大分子样品检测。 2. 可完成材料显微形貌分析、材料物质内部显微结构电子衍射分析。可对纳米超微材料（石墨烯、MOF、碳管等）、高分子材料（聚合物超薄切片、橡胶超薄切片、凝胶、胶束）等各种材料进行观察和分析研究。
主要技术指标：120 kV热发射电子枪（LaB6灯丝）；点分辨率0.37nm，线分辨率0.204nm；配有底插式4K*4K Ceta相机
主要学科领域：生物学
服务内容：1. 可用于常温细胞生物学超微结构研究和生物大分子样品检测。 2. 可完成材料显微形貌分析、材料物质内部显微结构电子衍射分析。可对纳米超微材料（石墨烯、MOF、碳管等）、高分子材料（聚合物超薄切片、橡胶超薄切片、凝胶、胶束）等各种材料进行观察和分析研究。
用户须知：

已测试 20 次平均 7 个工作日完成 100% 对测试结果满意

蔡司场发射扫描电镜

蔡司高分辨分析型场发射扫描电镜
主要功能：在满足常规的SEM成像应用外，蔡司Gemini450 SEM具备对样品更快的响应和更高的表面灵敏度，Gemini2电子光学镜筒可以快速连续的调节电子束流，对样品进行表面成像，以及快速便捷的EDS能谱和EBSD分析，对不导电样品、磁性样品同样可以高效分析。该电镜配备了蔡司的In-lens SE、In-lens EsB、样品室内E-T SE、aBSD 探测器用于成像分析；蔡司的CL探测器用于阴极荧光成像表征、牛津的EDS、EBSD探测器用于样品的能谱和电子背散射衍射分析。结合以上配置，该设备具备强大的分析功能，满足多种材料多种领域的电镜分析要求。 In addition to routine topography SEM applications, Zeiss Gemini 450 SEM stands for high detecting efficiency and more surface sensitivity for samples. Gemini2 optics offer seamlessly between low and high beam currents, which are suitable for high resolution imaging and fast EDS or EBSD analysis. Even non-conductive or magnetic samples can be imaged easily. This SEM is equipped with In-lens SE、In-lens EsB、chamber E-T SE、aBSD detectors for surface topography, and CL, EDS, EBSD detectors for analytics. This SEM has excellent analysis functions supported with the equipped detectors, and offers various applications for samples.
主要技术指标："电镜分辨率(SE): 0.7 nm @15 kV，2.0nm@15kV, 5nA, WD 8.5mm； 40nA 高分辨GEMINI Ⅱ系统，无漏磁设计，束流连续调节；配备能谱仪：无窗设计，有效晶体面积100mm2，元素可探测至Li3，最大计数率：130,000cps 配备EBSD探测器：采用CMOS图像传感器技术，分辨率：1244*1024 pixel resolution/240pps，156*128pixel resolution/3000pps 配备阴极荧光探测器：用于CL成像分析，波长范围/wave range : 300-650nm Resolution(SE): 0.7 nm @15 kV，2.0nm@15kV, 5nA, WD 8.5mm 40nA maximum resolution configuration GEMINI Ⅱ,Enabling continuous beam current adjustment and no exposure of specimen to a magnetic field EDS Detector: Windowless detector, possible sensor size up to 100mm2; Detecting X-rays down to Li(54eV); Resolution@130,000cps EBSD Detector: CMOS sensor technology, 1244*1024 pixel resolution/240pps, 156*128pixel resolution/3000pps CL Detector: wave range 300-650nm
主要学科领域：材料科学
服务内容：在满足常规的SEM成像应用外，蔡司Gemini450 SEM具备对样品更快的响应和更高的表面灵敏度，Gemini2电子光学镜筒可以快速连续的调节电子束流，对样品进行表面成像，以及快速便捷的EDS能谱和EBSD分析，对不导电样品、磁性样品同样可以高效分析。该电镜配备了蔡司的In-lens SE、In-lens EsB、样品室内E-T SE、aBSD 探测器用于成像分析；蔡司的CL探测器用于阴极荧光成像表征、牛津的EDS、EBSD探测器用于样品的能谱和电子背散射衍射分析。结合以上配置，该设备具备强大的分析功能，满足多种材料多种领域的电镜分析要求。 In addition to routine topography SEM applications, Zeiss Gemini 450 SEM stands for high detecting efficiency and more surface sensitivity for samples. Gemini2 optics offer seamlessly between low and high beam currents, which are suitable for high resolution imaging and fast EDS or EBSD analysis. Even non-conductive or magnetic samples can be imaged easily. This SEM is equipped with In-lens SE、In-lens EsB、chamber E-T SE、aBSD detectors for surface topography, and CL, EDS, EBSD detectors for analytics. This SEM has excellent analysis functions supported with the equipped detectors, and offers various applications for samples
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