首页 项目分类 名师专家 论文服务 知识产权 未来商城 学习论坛 学习视频 健康养生 科研动态 关于我们
您的位置: 首页 > 设备预约
EQUIPMENT BOOKING
设备预约
  • 主要功能:碳化硅衬底片和外延片的缺陷检测
  •  
  • 主要技术指标:1.设备支持1寸-8寸晶圆测试,并保证完成全片整面检测。 2.设备支持非整晶圆的样片(如切片等)检测,进行手动放置自动检测。 3.设备可以检测的缺陷必须至少包括:划痕(scratch),凹坑(pit),突起(bump),微管(micropipe),胡萝卜(carrot),三角形(triangle),Downfall,堆垛层错缺陷(Stacking Fault),基平面位错(BPD)等各结晶及加工缺陷。 4.设备对晶圆各处具有相同的缺陷检测灵敏度的扫描方式,并且在晶圆的周边及整面同时检测出BPD和SF缺陷。 5.设备具备可提高颗粒物(particle)、划痕(scratch)检测精度的优化设计。 6.设备需包含10倍目镜镜头,对缺陷的最大放大倍数不低于130倍,单张图像对应的视场范围不小于1.5mm×1.5mm,具有图像拼接功能可以形成整晶圆的图像。 7.设备对晶圆的缺陷可以进行图像显示和图像保存,并提供清晰的图像,图像的像素尺寸要求:表面缺陷的像素尺寸≤1.75μm/Pixel,PL检测的缺陷像素尺寸≤3.5 μm/Pixel。 8.设备对缺陷的检测精度:可成功检出并分类的缺陷最小尺寸不大于4μm。 9.设备可以检测的晶圆厚度范围300μm-800μm。 10.PL检测系统同时满足SiC衬底片、薄外延片(外延厚度在10μm以内)以及厚外延片(外延厚度在10μm-70μm范围)的检测需求。
  •  
  • 主要学科领域:物理学
  •  
  •  服务内容:碳化硅衬底片和外延片的缺陷检测
  •  
  •  用户须知:
已测试 32 次 平均 7 个工作日完成 100% 对测试结果满意
  • 主要功能:该系统主要用于进行新型薄膜材料的制备(MBE生长腔)以及材料的电子结构的研究(ARPES腔)。将这两个手段结合起来非常重要,因为这种通过高真空的结合为原味,无污染的电子结构测量提供了保证。这种MBE+ARPES系统也是现在世界上各个大学和研究所争相发展的研究方法和手段。角分辨光电子能谱(ARPES)是现在研究强关联电子体系的最重要的手段之一,它能直接测量关联物质体系最重要的参量之一,即费米面/能带结构的性质。
  •  
  • 主要技术指标:电子能谱仪:提供多种扫描方式(固定、扫描、角分辨等),角分辨模式的能量范围为3-1500 eV;能量分辨率<1.8 meV;极限角度分辨率<0.1°;可同时探测>38°的角度范围;拥有9个不同大小的入口光阑;拥有二维CCD探测器,能量通道>1000,角度通道>700,信号探测采用数字化2维CCD探测器模式,后续可不打破真空升级为偏转模式(即不用转样品进行费米面扫描) 高通量氦灯:束流> 2x1016 photons/sr s;能同时提供21.2 eV, 23.08 eV和40.8 eV光子,FWHM < 2 meV;提供微波发生器,单色器,三级真空差分系统(每级包括独立的分子泵、干泵);有独立漏阀,皮拉尼真空计,进行氦气管路的调控;使用定制的毛细管,内径为0.5mm;拥有氦灯位置单独调节系统,能自由调节氦灯位置和进行系统对准。 光电子能谱真空系统:由AISI 316L刚制成;内衬为μ金属;剩余磁场< 5毫高斯;真空系统包括离子泵、钛升华泵、分子泵组、干泵;装有离子规、分子泵与腔体有气动门阀,并配有真空保护;包括机械手、加热器、烘烤毯、控制器、系统控制面板;基本压强<1e-10 mbar。 分子束外延薄膜生长系统:装配有RHEED15电子衍射系统(能量500eV-15 keV, 束流30μA,束斑尺寸70μm,偏转角度+-15°);可以高温加热的样品台(最高达1400C);配备有QCM膜厚仪,膜厚粗量精度+-10%以内;样品台加热系统和温控系统;配备有RGA气体质量分析器(1-100 amu);系统配有分子泵,干泵,离子泵,钛升华泵,极限真空能达到1x10-10 mbar;配备有真空系统控制软件和真空保护系统;配备有8个源炉接口和水冷系统。 快速进样腔:配有全量程真空规,分子泵,无油机械泵,真空可达5x10-9 mbar;配备有加热器,能加热至800C;配备有氩离子刻蚀枪,氩气进气系统,高精度漏阀,可实现样品在5x10-6 mbar氩离子浓度下的离子刻蚀。 分子束外延生长和光电子能谱传样系统:能实现两者之间的真空传样
  •  
  • 主要学科领域:自然科学相关工程与技术
  •  
  •  服务内容:其重要功能包括:制备重费米子合金,各种f电子金属等高质量薄膜(MBE),对材料的电子结构进行高精度研究(ARPES)。MBE系统可为本校其他开展关联物质研究的小组们提供高质量样品,ARPES系统不仅能原味测量MBE腔生长的样品,也能测量由本校其他小组制备的块状样品。作为凝聚态物理一个重要的研究手段,ARPES技术的发展将为这个研究领域提供新的动力。这套MBE+ARPES系统也能用于很多其他材料体系,包括半导体,金属,氧化物等。其应用范围和共享学科包括凝聚态物理学,材料学,微电子学等。
  •  
  • 用户须知:无
已测试 24 次 平均 7 个工作日完成 100% 对测试结果满意
  • 主要功能:切割和纳米加工的作用,并有原位成像的辅助功能,加以辅助气体还能实现焊接。
  •  
  • 主要技术指标:一、 离子束 1. 分辨率:≤3.0nm@30kV; 2. 离子镜筒:Ion-sculpture镜筒; 3. 放大倍率范围不小于:300x~500kx; 4. 束流强度范围不小于:1pA-65nA; 5. 加速电压范围不小于:0.5kV-30kV; 二、 电子束 1. 分辨率:≤0.9nm@15KV;≤1.8nm@1kV; 2. 最大束流不低于20nA; 3. 放大倍率范围不小于:20x-2000kx; 4. 加速电压范围不小于:0.5kV-30kV; 三、 样品室及马达台系统 1. 样品室内部尺寸不小于330mm(宽)?330mm(深)?270mm(高); 2. 六轴高精度超优中心全自动马达样品台:样品台XY方向移动范围不低于100mm,Z方向移动范围不低于10mm,倾斜角度T范围不小于-4°到60°,旋转角度R=360°; 3. 样品预交换室:可放置样品最大尺寸不小于80mm; 四、 电子束曝光 1. 设备连接后,保证可实现将电镜切换成外部扫描模式; 2. 通过图形发生器设定写场,同时扫描图像后保证图像水平和垂直方向正确; 3. 通过图形发生器实现控制束闸的开关; 4. 通过图形发生器实现扫描电镜和其工作台的远程控制; 5. 使用标样对写场进行校准;
  •  
  • 主要学科领域:自然科学相关工程与技术
  •  
  •  服务内容:原位失效分析,定点投射样品制备,三维重构等方面
  •  
  •  用户须知:无
已测试 36 次 平均 7 个工作日完成 100% 对测试结果满意
83
共226页
APPOINTMENT
设备预约
提交申请后,我们会在1个工作日内联系您
*单位名称:
*联系人:
*联系电话:
*预约内容:
*备注:
立即预约