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氙灯老化试验箱
主要功能：模拟人工气候老化条件，进行老化
主要技术指标：黑板温度：光循环45℃-110℃，W/IR过滤器光循环40℃-90℃，暗循环25℃-55℃ 辐照度：0.40 – 1.68 W/m2（340nm），0.81 – 3.13 W/m2（420nm）
主要学科领域：材料科学
服务内容：提供人工气候老化服务，如GB/T 16422.2等
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微纳米3D打印系统
主要功能：1. 使用高精密紫外光刻投影系统，对树脂液面进行图案投影和固化，可实现高精度大幅面微尺度的3D打印； 2. 具有最高2μm的打印精度和最低5μm的打印层厚，可兼顾微尺度和宏观样件的打印； 3. 可用于制备微纳机电精密光学器件、微流控器件、柔性可穿戴等新材料和器件、生物医疗芯片、印刷电子等。
主要技术指标：1. 光源：405nm 紫外光源； 2. XY打印精度：2μm-10μm； 3. 样品高度：典型2mm，最高10mm； 4. 打印层厚：5μm-20μm； 5. 单幅面打印尺寸：3.84mm×2.16mm×10mm； 6. 拼接模式打印尺寸：38.4mm×21.6mm×10mm； 7. 单幅面重复打印模式尺寸：50mm×50mm×10mm； 8. 打印文件格式：STL。
主要学科领域：工程与技术科学基础学科
服务内容：可用于制备微纳机电精密光学器件、微流控器件、柔性可穿戴等新材料和器件、生物医疗芯片、印刷电子等。
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基质激光解析飞行时间质谱
基质辅助激光解析飞行时间质谱
主要功能：用于蛋白质组学，包括未知肽段的筛选、测序，肽质量指纹图谱，适于蛋白质、多肽、核酸、寡糖，小分子等各类分子的质量数精确测定
主要技术指标：质量准确度：MS线性模式：≤90ppm（蛋白混合物，内标）； MS反射模式：≤2ppm （内标）；≤10ppm(外标)；MS/MS模式：质量准确度：≤ 0.05 Da。
主要学科领域：生物学
服务内容：1.对生物大分子物质分子量的测定； 2.对蛋白质进行高通量的鉴定； 3.对有机小分子化合物分子量的测定； 4.对寡核苷酸的分析； 5.对基因的单核苷酸多态性的分析；6.临床微生物的鉴定
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生物质谱仪
主要功能：应用于可预测和不可预测代谢物的检测，并可以使用同重元素标记法进行肽定量分析。
主要技术指标：质量范围m/z：15－4000 ★MS/MS级数：1-15级，自动10级 ★质量分析器：二维线性离子阱 全扫描MS/MS灵敏度： ESI：250 fg利血平 全扫描MS/MS，信噪比 >100:1； APCI：250 fg利血平 全扫描MS/MS，信噪比 >100:1； MSn 灵敏度（ESI）：250 fg利血平 全扫描MS3，信噪比 >25:1 分辨本领： 单位质量分辨：扫描速率16700 amu/sec，FWHM=0.5 amu； 高分辨：扫描速率1100 amu/sec，FWHM=0.15 amu； 超高分辨：扫描速率27amu/sec，FWHM=0.05 amu
主要学科领域：生物学,食品科学技术
服务内容：应用于可预测和不可预测代谢物的检测，并可以使用同重元素标记法进行肽定量分析。
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原子层沉积系统
主要功能：该设备可在不同的基板上(平面、复杂三维、多孔基板和粉末)制备薄膜，通过自限制的化学反应（脉冲CVD），可在原子量级控制薄膜厚度，同时其具有优异的沉积共形性，因此特别适合于微/纳光子器件的制作。通过改变反应前聚体，它可沉积氧化物、氟化物等介质薄膜以及Au、Ag等金属薄膜，因而它同时适合于复杂基板上高品质光学薄膜的制备。
主要技术指标：基片尺寸：最大8 英寸(200mm)； 加热温度：1000C—5000C（可选配更高）； 均匀性： <±1%； 前驱体数：7路（其中4路热源，3路液态源）； 兼容性： 可兼容100 级超净室； 真空抽速：30-80 m3/h 气体：纯度99.999%的N2/Ar
主要学科领域：材料科学
服务内容：先进光学与光电子领域，原子层沉积也可用在在微电子high-k材料制备、材化领域囊的表面修饰等方面的应用研究。
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立式加工中心
主要功能：用于铣削、车削大型回转零件
主要技术指标：最大车削直径：1600mm 最大车削高度：1000mm
主要学科领域：机械工程
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地声过程模拟试验系统
主要功能：岩石真三轴实验，岩爆实验
主要技术指标：三向六面加载作动器，最大力1000KN,成套设备附清单
主要学科领域：土木建筑工程
服务内容：岩石真三轴实验，岩爆实验
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高温高真空摩擦试验机
主要功能：用于多种涂层或材料表面的摩擦磨损试验，可以模拟高温、高真空、惰性气体、（室温高真空），以及上述各种工况的复合情况。
主要技术指标：系统包括摩擦试验机单元、高真空系统、高温变温系统、惰性气体通道（氮气）、及安全防护系统。摩擦试样单元适合的样品尺寸：直径25mm的圆形试样；砝码加载最大：60N；摩擦力测量：最大：20N；旋转模式转速：1-1500rpm(旋转模式支持在高真空下运行）；具有线性往复模式，线性往复模式最大线速度100mm/sec；高真空腔体尺寸：≥ 480mm × 430mm ×380mm (长×宽×高)质量流速反馈控制：0-1800sccm，控制精度：全量程的2%以内；气压反馈控制模式：可控制范围：50-800mbar，控制精度：±5mbar；变温控制：零下80摄氏度到正400摄氏度范围内
主要学科领域：材料科学
服务内容：测量材料温升、摩擦系数等
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