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大型三轴仪
主要功能:该试验机是当今国内外具有较高水平的测试设备,它作为测试粗颗粒土(堆石料)单向和多向静力和动力力学特性的试验机,主要适用于粗粒土试样及其它材料在围压作用下的各种数据测定。对其夹具稍加改动可用于钢铁及其它金属材料的三轴压缩等试验。也可用于木材,水泥及混凝土等非金属材料的三轴压缩试验。
主要技术指标:轴向最大试验力 静态 2000kN 动态试验范围: 0~1000kN 有效测量范围: 20kN~2000Kn 测量精度 ±1% 变形测量范围: 0~300mm 位移测量范围: 0~300mm 围压系统 最大围压: 0~10MPa 测量精度 ±1% 动态围压测量范围: 0~1MPa 试样尺寸: φ300×600mm 孔隙水压力系统 最大孔隙水压力: 5MPa 孔隙水压力测量精度: ±1% 体变测量范围: 0~5000mL 体变测量精度: ±1% 振动频率:0.1~20Hz 荷载形式:正弦波、三角波、方波和随机波。 控制系统:可采用位移控制、应力控制、应变控制,竖向与环向加载可实现同步和相位控制,并具备加载速度无级可调,应力、应变、位移等各种控制方式能在试验过程中无冲击任意平滑切换。
主要学科领域:土木建筑工程
服务内容:该试验机主要用于粗粒土单轴压缩、单轴压缩变形试验、三轴压缩试验、三轴渗流试验、三轴循环加卸荷试验、单轴蠕变试验、三轴蠕变试验、动三轴试验。
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氙灯老化试验箱
主要功能:模拟人工气候老化条件,进行老化
主要技术指标:黑板温度:光循环45℃-110℃,W/IR过滤器光循环40℃-90℃,暗循环25℃-55℃ 辐照度:0.40 – 1.68 W/m2(340nm),0.81 – 3.13 W/m2(420nm)
主要学科领域:材料科学
服务内容:提供人工气候老化服务,如GB/T 16422.2等
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微纳米3D打印系统
主要功能:1. 使用高精密紫外光刻投影系统,对树脂液面进行图案投影和固化,可实现高精度大幅面微尺度的3D打印; 2. 具有最高2μm的打印精度和最低5μm的打印层厚,可兼顾微尺度和宏观样件的打印; 3. 可用于制备微纳机电精密光学器件、微流控器件、柔性可穿戴等新材料和器件、生物医疗芯片、印刷电子等。
主要技术指标:1. 光源:405nm 紫外光源; 2. XY打印精度:2μm-10μm; 3. 样品高度:典型2mm,最高10mm; 4. 打印层厚:5μm-20μm; 5. 单幅面打印尺寸:3.84mm×2.16mm×10mm; 6. 拼接模式打印尺寸:38.4mm×21.6mm×10mm; 7. 单幅面重复打印模式尺寸:50mm×50mm×10mm; 8. 打印文件格式:STL。
主要学科领域:工程与技术科学基础学科
服务内容:可用于制备微纳机电精密光学器件、微流控器件、柔性可穿戴等新材料和器件、生物医疗芯片、印刷电子等。
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基质激光解析飞行时间质谱
基质辅助激光解析飞行时间质谱
主要功能:用于蛋白质组学,包括未知肽段的筛选、测序,肽质量指纹图谱,适于蛋白质、多肽、核酸、寡糖,小分子等各类分子的质量数精确测定
主要技术指标:质量准确度:MS线性模式:≤90ppm(蛋白混合物,内标); MS反射模式:≤2ppm (内标);≤10ppm(外标);MS/MS模式:质量准确度:≤ 0.05 Da。
主要学科领域:生物学
服务内容:1.对生物大分子物质分子量的测定; 2.对蛋白质进行高通量的鉴定; 3.对有机小分子化合物分子量的测定; 4.对寡核苷酸的分析; 5.对基因的单核苷酸多态性的分析;6.临床微生物的鉴定
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生物质谱仪
主要功能:应用于可预测和不可预测代谢物的检测,并可以使用同重元素标记法进行肽定量分析。
主要技术指标:质量范围m/z:15-4000 ★MS/MS级数:1-15级,自动10级 ★质量分析器:二维线性离子阱 全扫描MS/MS灵敏度: ESI:250 fg利血平 全扫描MS/MS,信噪比 >100:1; APCI:250 fg利血平 全扫描MS/MS,信噪比 >100:1; MSn 灵敏度(ESI):250 fg利血平 全扫描MS3,信噪比 >25:1 分辨本领: 单位质量分辨:扫描速率16700 amu/sec,FWHM=0.5 amu; 高分辨:扫描速率1100 amu/sec,FWHM=0.15 amu; 超高分辨:扫描速率27amu/sec,FWHM=0.05 amu
主要学科领域:生物学,食品科学技术
服务内容:应用于可预测和不可预测代谢物的检测,并可以使用同重元素标记法进行肽定量分析。
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原子层沉积系统
主要功能:该设备可在不同的基板上(平面、复杂三维、多孔基板和粉末)制备薄膜,通过自限制的化学反应(脉冲CVD),可在原子量级控制薄膜厚度,同时其具有优异的沉积共形性,因此特别适合于微/纳光子器件的制作。通过改变反应前聚体,它可沉积氧化物、氟化物等介质薄膜以及Au、Ag等金属薄膜,因而它同时适合于复杂基板上高品质光学薄膜的制备。
主要技术指标:基片尺寸:最大8 英寸(200mm); 加热温度:1000C—5000C(可选配更高); 均匀性: <±1%; 前驱体数:7路(其中4路热源,3路液态源); 兼容性: 可兼容100 级超净室; 真空抽速:30-80 m3/h 气体:纯度99.999%的N2/Ar
主要学科领域:材料科学
服务内容:先进光学与光电子领域,原子层沉积也可用在在微电子high-k材料制备、材化领域囊的表面修饰等方面的应用研究。
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立式加工中心
主要功能:用于铣削、车削大型回转零件
主要技术指标:最大车削直径:1600mm 最大车削高度:1000mm
主要学科领域:机械工程
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地声过程模拟试验系统
主要功能:岩石真三轴实验,岩爆实验
主要技术指标:三向六面加载作动器,最大力1000KN,成套设备附清单
主要学科领域:土木建筑工程
服务内容:岩石真三轴实验,岩爆实验
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