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放电等离子烧结系统

主要功能：用以研究高性能陶瓷材料与金属材料微结构调控
主要技术指标：Pressingforce压力 : 5…250 kN 1.02Pistonstroke量程 : 0…100 mm 1.03Pistonspeed位移速度 : 0…2 mm/s 1.04Max.component？最大试件 :80mm *1
主要学科领域：材料科学
服务内容：高温材料烧结
用户须知：

已测试 17 次平均 7 个工作日完成 100% 对测试结果满意

超导核磁共振质谱仪

主要功能：主要用于结构分析方面
主要技术指标：指标：600M核磁等等
主要学科领域：材料科学,化学,药学,化学工程
服务内容：化学、化工、生命、环境
用户须知：

已测试 10 次平均 7 个工作日完成 100% 对测试结果满意

哈氏C单温区微反应器

主要功能：微反应化工领域等功能
主要技术指标：耐压：5MPa；温度范围：-25~200℃
主要学科领域：药学
服务内容：微反应工艺开发等服务。
用户须知：

已测试 5 次平均 7 个工作日完成 100% 对测试结果满意

双面对准光刻机

主要功能：1. 支持365nm、405nm、435nm波长，可曝光加工亚微米（＞0.8μm）图形结构 2. 具有恒量模式、自动控制曝光时间、自动对准等功能 3. 配置消衍射及微镜式光学系统，可在同一设备实现“高分辨率”和“大景深”两种模式曝光，且两种模式可随时切换 4. 具有自动图像采集及存储功能，用于光刻的正面及背面图形的精确对准
主要技术指标：1. 光源：LED三光源，波长分别为365nm、405nm、436nm 2. 光强均匀性：±2.0% （6英寸衬底） 3. 曝光模式：接近式、软接触、硬接触、真空接触 4. 高分辨率: 0.8μm（真空接触） 5. 对准方式：正面对准、背面对准 6. 正面套准精度：+/-0.5μm 7. 背面套准精度：+/-1.0μm 8. 晶圆尺寸：2英寸、4英寸、6英寸、碎片（5mm ~20mm）
主要学科领域：工程与技术科学基础学科
服务内容：紫外光刻系统是目前实验室光刻技术中最为常用和重要的光刻设备，可用于各种微米级结构图形及器件的制作，如微电子器件、光电子器件、超导电子学器件等。
用户须知：

已测试 2 次平均 7 个工作日完成 100% 对测试结果满意

有机-金属真空热蒸镀系统

主要功能：对OLED新材料进行初步快速筛选
主要技术指标：膜厚均匀性可以达到5%以内，实现快速降温和升温，单次可以做出8种不同器件结构
主要学科领域：材料科学
服务内容：
用户须知：对OLED新材料进行初步快速筛选

已测试 3 次平均 7 个工作日完成 100% 对测试结果满意

极低温强磁场扫描隧道显微镜

主要功能：低温强磁场条件下对凝聚态样品表面原子成像，测量电子能谱，电性测量
。
主要技术指标：XY方向扫描范围在 RT/4.2K/2K温度下大于4/1.2/1.2微米。 Z方向工作范围在 RT/4.2K/2K温度下大于250/70/60纳米。 Z向分辨率室温下好于0.02nm，4.2K下好于0.01nm。 XY方向分辨率室温下好于0.05nm，4.2K下好于0.01nm。稳定性 XY方向的漂移小于0.2nm/hour，Z方向小于0.1nm/hour。样品台在XY平面内，样品能够在±0.5mm范围内粗动。
主要学科领域：物理学
服务内容：低温凝聚态物理实验
用户须知：无

已测试 12 次平均 7 个工作日完成 100% 对测试结果满意

空间多组学组织成像分析系统

主要功能：用于样品多抗体成像，分析细胞亚群分子生物学，建立病理空间定位组学。
主要技术指标：用于基于生物组织切片的超多标生物标志物 “空间蛋白组”的扫描和分析。整套系统由一个微流控自动化组件、一个自动化显微成像组件通过软件、特殊设计的适配器整合而成。整个系统由一套软件操控，将自动化组件和显微成像组件组成一个全自动的平台，系统配置全自动免疫组化染色装置。
主要学科领域：临床医学
服务内容：用于样品多抗体成像，分析细胞亚群分子生物学，建立病理空间定位组学。
用户须知：使用前需预约，并遵守仪器操作规范

已测试 7 次平均 7 个工作日完成 100% 对测试结果满意

离子弧/磁控溅射复合镀膜机

主要功能：多弧离子镀；磁过滤多弧离子镀；Hipims镀膜
主要技术指标：镀膜区域500*300；最高温度500；配备4套多弧离子弧源、4套磁过滤离子弧源、2涛离子源、2套HIPIMS
主要学科领域：材料科学
服务内容：数控刀具、模具表面硬质涂层。
用户须知：提前预约

已测试 6 次平均 7 个工作日完成 100% 对测试结果满意

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